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5. Equation of State

5. Equation of State

Equations of state

  • 실제 반도체에서 carrier action(generation, recombination, diffusion, drift)은 동시에 발생
  • 그 결과 전자 및 정공 농도, 전위에 영향
  • Equations of state
    • 반도체의 상태를 완벽하게 설명하기 위한 방정식
    • carrier action의 효과를 모두 고려
    • n(x,y,z,t), p(x,y,z,t), V(x,y,z,t)n(x,y,z,t),\ p(x,y,z,t),\ V(x,y,z,t)로 표현

  • Continuity Equation의 도출 과정

    • 생성-결합을 제외한 보존 법칙 : J=ρt\nabla\cdot J=-\frac{\partial\rho}{\partial t}
      • 전자의 ρ=qn\rho=-qn
        J=qnt\nabla\cdot J=q\frac{\partial n}{\partial t}

      • 정공의 ρ=qp\rho=qp
        J=qpt\nabla\cdot J=q\frac{\partial p}{\partial t}

    • 생성-결합을 고려한 Continuity Equations
      • nt=ntdrift+ntdiff+ntthermalRG+ntother\frac{\partial n}{\partial t}=\frac{\partial n}{\partial t}|_{drift}+\frac{\partial n}{\partial t}|_{diff}+\frac{\partial n}{\partial t}|_{thermal R-G}+\frac{\partial n}{\partial t}|_{other}
        =1qJN+ntthermalRG+ntother=\frac{1}{q}\nabla\cdot J_N+\frac{\partial n}{\partial t}|_{thermal R-G}+\frac{\partial n}{\partial t}|_{other}

      • pt=ptdrift+ptdiff+ptthermalRG+ptother\frac{\partial p}{\partial t}=\frac{\partial p}{\partial t}|_{drift}+\frac{\partial p}{\partial t}|_{diff}+\frac{\partial p}{\partial t}|_{thermal R-G}+\frac{\partial p}{\partial t}|_{other}
        =1qJP+ptthermalRG+ptother=-\frac{1}{q}\nabla\cdot J_P+\frac{\partial p}{\partial t}|_{thermal R-G}+\frac{\partial p}{\partial t}|_{other}

  • 반도체의 상태 - 전자, 정공, 전위(Eq. of states) - 밴드 다이어그램은 서로 연관되어있는 상태

    • 에너지 밴드를 그릴 수 있다 = 반도체 상태를 알 수 있다 = 정공, 전자, 전위를 안다

  • Equation Set used in Semiconductor device
    • Conservation Law : 위치에 대한 비선형 2차 편미분방정식

      • 1qJN+ntthermalRG+ntother\frac{1}{q}\nabla\cdot J_N+\frac{\partial n}{\partial t}|_{thermal R-G}+\frac{\partial n}{\partial t}|_{other}

      • 1qJP+ptthermalRG+ptother-\frac{1}{q}\nabla\cdot J_P+\frac{\partial p}{\partial t}|_{thermal R-G}+\frac{\partial p}{\partial t}|_{other}

      • D=ρ\nabla\cdot D=\rho ( 2V=ρ/ϵ\nabla^2V=-\rho/\epsilon )

    • Constitutive Relations

      • ρ=q(ND++pNAn)\rho=q(N_D^++p-N_A^--n) : Charge Neutality Condition
      • D=ϵED=-\epsilon E
      • JN=qnμnE+pDNnJ_N=qn\mu_nE+pD_N\nabla n
      • JP=qpμpEqDppJ_P=qp\mu_pE-qD_p\nabla p
    • 매우 작은 반도체 구조에는 슈뢰딩거 방정식 역시 고려


Minority Carrier Diffusion Equation

  • 계산을 위한 가정

    • 1차원 분석

    • minority carrier에 의해 majority carrier가 구해짐

    • 전계는 매우 작음 (= Diffusion Equation)

    • uniform doping

      • 선형방정식 유도
      • uniform doping : n=n0(x,y,z)+Δn(t)n=n_0(x,y,z)+\Delta n(t)에서 n0n_0는 위치에 무관한 상수
    • low-level injection

      • nonequilibrium 상태에 의한 초과 캐리어는 majority 캐리어 농도보다 매우 작다.
      • Δn(t)<<n0\Delta n(t)<<n_0
    • 열에 의한 생성-재결합은 캐리어 농도 변화에 의해 간접적으로 발생

    • 추가적인 변화는 빛 에너지에 의해서만 발생

  • Minority Carrier Diffusion Equation

    • Δnpt=DN2Δnpx2Δnpτn+GL\frac{\partial\Delta n_p}{\partial t}=D_N\frac{\partial^2\Delta n_p}{\partial x^2}-\frac{\Delta n_p}{\tau_n}+G_L (p-type)

    • Δpnt=DP2Δpnx2Δpnτp+GL\frac{\partial\Delta p_n}{\partial t}=D_P\frac{\partial^2\Delta p_n}{\partial x^2}-\frac{\Delta p_n}{\tau_p}+G_L (n-type)

    • Steady State : Δnpt\frac{\partial\Delta n_p}{\partial t} ( Δpnt\frac{\partial\Delta p_n}{\partial t} ) =0=0

    • No Concentration Gradient (No Diffusion, Uniformly Generated) :
      DP2Δnpx2D_P\frac{\partial^2\Delta n_p}{\partial x^2} ( DP2Δpnx2D_P\frac{\partial^2\Delta p_n}{\partial x^2} ) =0=0

    • No Thermal R-G : Δnpτn\frac{\Delta n_p}{\tau_n} ( Δpnτp\frac{\Delta p_n}{\tau_p} ) =0=0

    • No Light : GL=0G_L=0


Solutions of Minority Carrier Diffusion Equation

  • 주어진 조건 파악 : 반도체 물질, 온도, 전자-정공 농도, lifetime, 외부 자극 등등
  • 초기 상태 정의 : Fully-ionized 상태에서의 전자, 정공 농도
  • 방정식 조건 분석 : Steady State, No Diffusion 등등
  • 방정식 풀이 계산
  • 계산한 해가 앞의 조건을 만족하는지 재확인

  • ex. room temperature, uniformly generated, n-type
    • minority carrier : DP2Δpnx2D_P\frac{\partial^2\Delta p_n}{\partial x^2} =0=0 이므로

    • Δpnt=Δpnτp+GL\frac{\partial\Delta p_n}{\partial t}=-\frac{\Delta p_n}{\tau_p}+G_L

    • initial condition : Δpn(t=0)=0\Delta p_n(t=0)=0

    • Δpn(t)=GLτp(1exp[t/τp])\therefore \Delta p_n(t)=G_L\tau_p(1-exp[-t/\tau_p])

  • 시간이 흐름에 따라 excess carrier는 0에서 Δp\Delta p를 향해 수렴
  • 재확인
    • GLτpG_L\tau_p의 단위는 1/cm31/cm^3, 정공 농도와 단위 동일
    • low-level injection validity 확인

  • ex 2. room temperature, surface generated, n-type, GL=0G_L=0
    • steady state : Δpnt=DP2Δpnx2Δpnτp=0\frac{\partial\Delta p_n}{\partial t}=D_P\frac{\partial^2\Delta p_n}{\partial x^2}-\frac{\Delta p_n}{\tau_p} = 0

    • General Solution : Δpn(x)=Aex/Dpτp+Bex/Dpτp\Delta p_n(x)=Ae^{-x/D_p\tau_p}+Be^{x/D_p\tau_p}

    • surface generation

      • Δpn(0)=ΔPn0\Delta p_n(0)=\Delta P_{n0} , Δpn()=0\Delta p_n(\infty)=0
      • 표면에서만 excess carrier 생성
    • Δpn(x)=ΔPn0exp[x/DPτp ]\therefore \Delta p_n(x)=\Delta P_{n0}exp[-x/\sqrt{D_P\tau_p}\ ]

    • DpτpLp\sqrt{D_p\tau_p}\equiv L_p : hole diffusion length

    • diffusion length

      • <x>=xΔpn(x)Δpn(x)<x>=\frac{\int x\Delta p_n(x)}{\int \Delta p_n(x)}는 x=0일 때 Δpn(x)\Delta p_n(x)의 접선으로 나타남
      • 기댓값 <x><x>는 거리의 평균값, 즉 Diffusion에 의해 평균적으로 캐리어가 이동하는 거리를 의미
      • 캐리어의 이동 거리는 전속밀도 DD와 lifetime τ\tau에 비례하게 됨

  • ex3. local carrier generation, n-type
    • 특정 지점에서 Electron-hole pair가 계속 생성

    • steady state : Δpnt=DP2Δpnx2Δpnτp+gδ(x)=0\frac{\partial\Delta p_n}{\partial t}=D_P\frac{\partial^2\Delta p_n}{\partial x^2}-\frac{\Delta p_n}{\tau_p} +g\delta(x)= 0

    • boundary condition : Δp(±)=0\Delta p(\pm\infty)=0

      • 생성 지점 좌우로 diffusion
    • Δp(x)={Aexp(x/LN) : x<0Aexp(x/LN) : x0\Delta p(x)=\begin{cases} Aexp(x/L_N)\ :\ x<0\\ Aexp(-x/L_N)\ :\ x\geq0 \end{cases}

    • 델타함수의 특성을 이용하여 해 계산 : 00^-~0+0^+ 적분

      • A=gLN/2DNA=gL_N/2D_N
      • Δp(x)={(gLN/2DN) exp(x/LN) : x<0(gLN/2DN) exp(x/LN) : x0\therefore\Delta p(x)=\begin{cases} (gL_N/2D_N)\ exp(x/L_N)\ :\ x<0\\ (gL_N/2D_N)\ exp(-x/L_N)\ :\ x\geq0 \end{cases}

  • ex4. Instant local carrier generation, n-type, drift & diffusion
    • ex3과 다르게 1회성 EHP 생성

    • Δpnt=DP2Δpnx2μpϵ0ΔpnxΔpnτp\frac{\partial\Delta p_n}{\partial t}=D_P\frac{\partial^2\Delta p_n}{\partial x^2}-\mu_p\epsilon_0\frac{\partial\Delta p_n}{\partial x}-\frac{\Delta p_n}{\tau_p}

    • diffusion에 의해 시간이 흐를수록 가우시안 형태의 분포가 폭이 넒어짐

      • Δp(x,t)=p(x,t)exp[t/τp]\Delta p(x,t)=p'(x,t)exp[-t/\tau_p]
    • boundary condition : Δp(±)=0\Delta p(\pm\infty)=0

    • 미분방정식에 위의 해 대입

      • Δpt=DP2px2μpϵ0px\frac{\Delta p'}{\partial t}=D_P\frac{\partial^2p'}{\partial x^2}-\mu_p\epsilon_0\frac{\partial p'}{\partial x}
      • p(x,t)=Δps4πDPtexp[(xμpϵ0t)24DPt](cm2)\therefore p'(x,t)=\frac{\Delta p_s}{\sqrt{4\pi D_Pt}}exp[-\frac{(x-\mu_p\epsilon_0t)^2}{4D_Pt}](cm^{-2})
      • Δps\Delta p_s : Electron hole pair 생성에 의한 excess carrier
    • pp'를 위 해에 대입

      • Δp(x,t)=Δps exp[t/τP]4πDPtexp[(xμpϵ0t)24DPt](cm2)\Delta p(x,t)=\frac{\Delta p_s\ exp[-t/\tau_P]}{\sqrt{4\pi D_Pt}}exp[-\frac{(x-\mu_p\epsilon_0t)^2}{4D_Pt}](cm^{-2})
      • et/τPe^{-t/\tau_P} : 재결합에 의한 excess carrier 농도 감소
      • 4πDPt\sqrt{4\pi D_Pt} : diffusion에 의한 peak 농도 감소
      • 4DPt4D_Pt : diffusion에 의한 분포 폭 증가
      • (xμpϵ0t)2(x-\mu_p\epsilon_0t)^2 : drift에 의한 shift
    • 재확인

      • Δps=0\Delta p_s=0
        • Electron-Hole pair 생성이 없음
        • Δp(x,t)\Delta p(x,t)=0
      • limiting case
        • τp=0\tau_p=0
          • excess carrier 생성 즉시 소멸
          • et/τP=0e^{-t/\tau_P}=0이 되므로 Δp(x,t)=0\Delta p(x,t)=0
        • DP=D_P=\infty or t=t=\infty
          • 생성된 excess carrier가 완전히 diffusion
          • Δp(x,t)=0\Delta p(x,t)=0
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