5. Equation of State
Equations of state
- 실제 반도체에서 carrier action(generation, recombination, diffusion, drift)은 동시에 발생
- 그 결과 전자 및 정공 농도, 전위에 영향
- Equations of state
- 반도체의 상태를 완벽하게 설명하기 위한 방정식
- carrier action의 효과를 모두 고려
- 로 표현
-
Continuity Equation의 도출 과정
- 생성-결합을 제외한 보존 법칙 :
-
전자의
-
정공의
-
- 생성-결합을 고려한 Continuity Equations
-
- 생성-결합을 제외한 보존 법칙 :
-
반도체의 상태 - 전자, 정공, 전위(Eq. of states) - 밴드 다이어그램은 서로 연관되어있는 상태
- 에너지 밴드를 그릴 수 있다 = 반도체 상태를 알 수 있다 = 정공, 전자, 전위를 안다
- Equation Set used in Semiconductor device
-
Conservation Law : 위치에 대한 비선형 2차 편미분방정식
-
-
-
( )
-
-
Constitutive Relations
- : Charge Neutality Condition
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매우 작은 반도체 구조에는 슈뢰딩거 방정식 역시 고려
-
Minority Carrier Diffusion Equation
-
계산을 위한 가정
-
1차원 분석
-
minority carrier에 의해 majority carrier가 구해짐
-
전계는 매우 작음 (= Diffusion Equation)
-
uniform doping
- 선형방정식 유도
- uniform doping : 에서 는 위치에 무관한 상수
-
low-level injection
- nonequilibrium 상태에 의한 초과 캐리어는 majority 캐리어 농도보다 매우 작다.
-
열에 의한 생성-재결합은 캐리어 농도 변화에 의해 간접적으로 발생
-
추가적인 변화는 빛 에너지에 의해서만 발생
-
-
Minority Carrier Diffusion Equation
-
(p-type)
-
(n-type)
-
Steady State : ( )
-
No Concentration Gradient (No Diffusion, Uniformly Generated) :
( ) -
No Thermal R-G : ( )
-
No Light :
-
Solutions of Minority Carrier Diffusion Equation
- 주어진 조건 파악 : 반도체 물질, 온도, 전자-정공 농도, lifetime, 외부 자극 등등
- 초기 상태 정의 : Fully-ionized 상태에서의 전자, 정공 농도
- 방정식 조건 분석 : Steady State, No Diffusion 등등
- 방정식 풀이 계산
- 계산한 해가 앞의 조건을 만족하는지 재확인
- ex. room temperature, uniformly generated, n-type
-
minority carrier : 이므로
-
-
initial condition :
-
-
- 시간이 흐름에 따라 excess carrier는 0에서 를 향해 수렴
- 재확인
- 의 단위는 , 정공 농도와 단위 동일
- low-level injection validity 확인
- ex 2. room temperature, surface generated, n-type,
-
steady state :
-
General Solution :
-
surface generation
- ,
- 표면에서만 excess carrier 생성
-
-
: hole diffusion length
-
diffusion length
- 는 x=0일 때 의 접선으로 나타남
- 기댓값 는 거리의 평균값, 즉 Diffusion에 의해 평균적으로 캐리어가 이동하는 거리를 의미
- 캐리어의 이동 거리는 전속밀도 와 lifetime 에 비례하게 됨
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- ex3. local carrier generation, n-type
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특정 지점에서 Electron-hole pair가 계속 생성
-
steady state :
-
boundary condition :
- 생성 지점 좌우로 diffusion
-
-
델타함수의 특성을 이용하여 해 계산 : ~ 적분
-
- ex4. Instant local carrier generation, n-type, drift & diffusion
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ex3과 다르게 1회성 EHP 생성
-
-
diffusion에 의해 시간이 흐를수록 가우시안 형태의 분포가 폭이 넒어짐
-
boundary condition :
-
미분방정식에 위의 해 대입
- : Electron hole pair 생성에 의한 excess carrier
-
를 위 해에 대입
- : 재결합에 의한 excess carrier 농도 감소
- : diffusion에 의한 peak 농도 감소
- : diffusion에 의한 분포 폭 증가
- : drift에 의한 shift
-
재확인
-
- Electron-Hole pair 생성이 없음
- =0
- limiting case
-
- excess carrier 생성 즉시 소멸
- 이 되므로
- or
- 생성된 excess carrier가 완전히 diffusion
-
-
-